随着电子产业的发展，高技术材料逐渐向薄膜转移，镀膜期间随之发展迅速，靶材是一种具有高附加值的特种电子材料，是溅射薄膜材料的源极。陶瓷靶材作为非金属薄膜产业发展的基础材料，已得到的发展，靶材市场规模日益膨胀。

国内的陶瓷平面靶材主要采用烧结及绑定工艺，可生产大长度600mm，大宽度400mmm，大厚度30mm，圆角、斜边、台阶等异形根据客户要求加工。

常见的陶瓷靶材主要有：ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、二氧化锆靶，五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝、靶五氧化二钽、五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶等。

陶瓷靶材的种类：

(1)按化学组成，可分为氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等。其中平面显示ITO陶瓷靶材国内已广泛生产应用。高介电绝缘膜用陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材具有广阔的应用前景。

(2)按应用来分，可分为半导体关联陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、磁记录陶瓷靶材、光记录陶瓷靶材、超导陶瓷靶材、巨磁电阻陶瓷靶材等。

陶瓷靶材在现有的复杂电子产品制造中，只不过占工程的极少部分，但起到了信息产业基础先导材料的作用。我国电子信息产业发展很快，陶瓷溅射靶材的需求逐年增多，未来对陶瓷溅射靶材的研究和开发，是我国靶材供应商的一个重要的课题。